產(chǎn)品詳情
用途
北京華科易通分析儀器有限公司，是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務于一體的高科技企業(yè)。HK-2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎上，吸收國際*新技術(shù)成果研制開發(fā)的*新產(chǎn)品。
ICP作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè)，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。
它是集光、機、電、計算機、分析技術(shù)于一體的高新技術(shù)產(chǎn)品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準確、可靠等特點。由于采用了計算機技術(shù)，儀器實現(xiàn)了高度智能化，從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達到了目前國內(nèi)*，是一種*理想的分析儀器。
公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾，以其豐富的工作經(jīng)驗和和完善熱情的服務為保障，竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品。
1. 主要特點
² 優(yōu)良的光學系統(tǒng)，先進的控制系統(tǒng)：保證定位準確，信背比優(yōu)良；
² 采用進口的關鍵部件：確保儀器的*度和靈敏度；
² 極小的基體效應：99%的試樣不用分離基體；
² 測量范圍寬：超微量到常量的分析；
² 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%；
² 穩(wěn)定性：相對標準偏差RSD≤2.00% ；
² 分析速度快：每分鐘元素順序掃描*快達25個以上；
² 分析元素之多：可分析72種金屬元素和部分非金屬元素；
² 可做定性或定量分析；
² 便捷的分析軟件：基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件，使操作更加簡便容易，軟件無需安裝可直接使用，數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能，對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。
2. 儀器組成及工作原理
原子發(fā)射光譜法是光學分析法中產(chǎn)生與發(fā)展*早的一種。
原子發(fā)射光譜法是利用物質(zhì)在熱激發(fā)或電激發(fā)下，每種元素的原子或離子發(fā)射特征光譜來判斷物質(zhì)的組成，而進行元素的定性與定量分析的方法。
HK-2000型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。
等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負載線圈（內(nèi)通冷卻水）當高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流（工作頻率40.68MHz功率1kW左右）通過線圈時，其周圍產(chǎn)生交變磁場，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子，在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子，在炬管內(nèi)形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下，使原子電離，即處于激發(fā)態(tài)的原子*不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài)，將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上，分光后的待測元素特征譜線光強，通過計算由步進電機轉(zhuǎn)動光柵傳動機構(gòu)，準確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后，由計算機進行數(shù)據(jù)處理，*后由打印機打出分析結(jié)果。
原子發(fā)射光譜分析的優(yōu)點：
① 具有多元素同時檢測能力?？赏瑫r測定一個樣品中的多種元素。
② 分析速度快?？稍趲追昼妰?nèi)同時對幾十種元素進行定量分析。
③ 檢出限低。一般光源可達10～0.1mg/mL, 電感耦合高頻等離子體原子發(fā)射光譜（ICP-AES）檢出限可達ng/mL級。
④準確度較高。一般光源相對誤差約為5％~10％，ICP-AES相對誤差可達l％以下。
⑤試樣消耗少。
⑥ ICP光源校準曲線線性范圍寬可達4～6個數(shù)量級。
3. 主要技術(shù)指標
掃描范圍 ：光柵3600條刻線/mm,掃描范圍（190～500）nm
光柵2400條刻線/mm,掃描范圍（190～800）nm
波長示值誤差：±0.03nm，重復性≤0.005nm。
*小光譜帶寬：Mn 257.610nm，譜線峰半高寬≤0.008nm。
重復性：相對標準偏差 RSD≤1.50%
穩(wěn)定性：相對標準偏差 RSD≤2.00%
